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MIRA 第四代場發射掃描電子顯微鏡

MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡，配置有高亮度肖特基場發射電子槍，在Essence? 操作軟件的同一個窗口中實現了 SEM 成像和實時元素分析。這種結合大大簡化了從樣品中獲取形貌和元素數據的過程，從而使得MIRA 成為質量控制、失效分析和實驗室常規材料檢測的有效分析解決方案。

MIRA 具有創新的光學設計，確保在需要時可以隨時無縫地選擇成像或分析條件，而無需對鏡筒內的任何元件重新進行機械對中；借助完全集成的 Essence? EDS 軟件，可以快速、輕松地從成像切換到分析操作模式，一鍵即可實現設置參數的更改。

主要特點

■完全集成的 Essence? EDS 分析平臺

在 Essence? 軟件的同一個窗口中實現 SEM 成像和實時元素分析；

擁有無光闌光路設計及實時電子束追蹤技術(In-Flight Beam Tracing?)，可快速獲得理想的成像和分析條件；

大視野光路（Wide Field Optics?）設計，可實現放大倍率低至2倍，因而無需額外的光學導航相機，即可輕松對樣品進行定位導航；

標配的 SingleVac? 模式，不導電樣品或電子束敏感樣品無需噴鍍即可在此模式下直接進行觀察；直觀的模塊化 Essence? 軟件，無論用戶的經驗水平如何，均可輕松操作；

■Essence? 3D 防碰撞模型

可確保樣品臺和樣品移動時安裝在樣品室內探測器的安全；

可選配的鏡筒內 SE 和 BSE 探測器，以及電子束減速技術，更好的提升了低電壓下的成像性能；

標準分析平臺，可選配集成多種探測器和附件（如陰極熒光探測器，水冷背散射電子探測器或拉曼光譜儀等）。

■中間鏡設計

MIRA 的鏡筒中增加了一個特殊的透鏡，使得電子束斑尺寸更小，進而提升大束流下的分辨率。這個獨特的透鏡--中間鏡 (Intermediate  Lens?) 結合電子束追蹤技術(In-Fight Beam Tracing?)，可確保操作者設定的束流值與真實作用在樣品上的束流相一致。這對于需要大束流下進行的分析應用如EDS/EBSD/WDS等，以及必須在相同條件下進行重復實驗或表征的需求尤其重要。

■更多的探測器和附件

MIRA  可以安裝各類附件以滿足特定的應用需求，同時還可以選配鏡筒內 SE 和BSE 探測器以及電子束減速技術，進一步拓展了 MIRA 的分析能力，滿足當前和未來在亞微米尺度的表征需求。選配鏡筒內 SE 和 BSE 探測器后，即可同時獲得包括樣品室內SE、樣品室內BSE、鏡筒內SE及鏡筒內BSE的4種不同襯度信號。電子束減速技術則可提升其成像能力，尤其是在低電壓下的分辨率。

■全新的 Essence^TM 電鏡控制軟件

采用 Essence? 多用戶電鏡操作軟件，具有快速搜索、操作步驟撤銷/重做和預設參數等功能，實現更高效的樣品分析和表征。用戶可以根據實際操作水平或特殊應用需求的不同在軟件中自定義界面布局。另外，Essence? 防碰撞模型軟件虛擬出樣品室內部，直觀的顯示樣品室內的硬件的幾何關系，樣品臺的大小和位置，以及樣品和安裝的其它附件。

■創新的 SingleVac ^TM 模式

SingleVac? 模式是 MIRA 的標配功能，已為此模式預設了真空值，荷電樣品無需噴鍍也可以使用背散射電子探測器直接觀察。同時還可以選配 UniVac? 模式，該模式下可連續調節真空度可達 700 Pa，用于極端放電、放氣及電子束敏感樣品的二次電子和背散射電子成像。

案例分享

▲（左） 在低真空下獲得的鉆石生長紋的陰極熒光圖像 ， 可以判斷為天然或合成鉆石；

（中 ）甲殼動物化石表面形貌細節 ， 在 2 kV 下成像；

（右） Scandian 地區礦物復雜共生關系的抗氧化物背散射電子圖像。

▲SEM實時掃描窗口中，使用Essence?  EDS獲得的石膏拋光界面上Ca（橙色）和Si（紫色）的面分布圖